顏料分散設備膠體磨，顏料研磨分散設備，顏料研磨設備，高剪切分散機，全陶瓷錐體磨  

GMO2000是一種高性能的在線錐體磨，能夠對堅硬的和粒狀或晶體狀原料進行濕磨和細磨。

顏料分散設備膠體磨特別適合于懸浮液中的結塊和顆粒研磨。優(yōu)良的分散性能可以用于連續(xù)過程中，在
一個道次中為研磨顆粒提供狹窄分布范圍。對于難度大的研磨任務，錐體磨可以通過管連接安
裝到帶有工作容器的再循環(huán)回路中。

GMO 2000錐體磨的銑刀很特殊，與膠體磨不同。*階段與膠體磨*相同，著眼于產(chǎn)品送料
和預銑。除齒輪dao具外，其他錐形轉子/定子部分都涂有一層非常堅硬的涂料，其表面紋理非常粗
糙。該涂料由高品質材料組成，如碳化物和陶瓷。另外，我公司還提供了堅實的鋯陶瓷組成的研
磨工具。研磨刀頭產(chǎn)生強烈的剪切區(qū)域，可處理中或高粘度材料。與膠體磨相比，可實現(xiàn)的分布
帶更窄，粒度更細。即使在低粘度條件下濕磨與固體含量相結合提供了良好的效果。
研磨刀頭的錐形幾何結構使定子可以軸向轉動，對研磨間隙可進行無限調節(jié)。除了轉速，通過調
節(jié)轉子與定子之間的間距也能影響能量輸入和分散效果。對于一個固定的研磨間隙和可重復性
的高要求的應用，銑間距的無限調整可以由系統(tǒng)代替固定墊片。

錐體磨轉子上可噴涂金屬碳化物和陶瓷涂層，亦可做成全陶瓷模塊，滿足不同行業(yè)需要。

發(fā)展趨勢：

錐體磨過程傳熱傳質的理論重點是研究發(fā)生在被膠體磨物料內部的過程。非穩(wěn)態(tài)流場的理論研究重點是研究物料之外，椎體磨機之內的低壓低溫空間環(huán)境，描述該空間環(huán)境的參數(shù)有溫度、壓力、濕度等參數(shù)，這些非穩(wěn)態(tài)流場的模擬方法至今還是個難題。錐體磨機冷凝器中的非穩(wěn)態(tài)流場中又增加了一個汽－固相變的問題，使研究更加復雜化。因此，近幾年雖然有人研究，并發(fā)表了論文，但都沒有形成有效的理論，仍然是值得深入研究的課題之一。

SGN膠體磨選型表：

1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度，稠度和***終產(chǎn)品的要求。

3 如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準確的參數(shù)，以便選型和定制。

4 本表的數(shù)據(jù)因技術改動，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實物為準。

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