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產(chǎn)品中心
產(chǎn)品名稱:

納米粉體膠體磨

產(chǎn)品型號:
更新時間: 2024-07-02
描述:納米粉體膠體磨,SGN膠體磨GM2000系列特別適合于膠體溶液、納米懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外,GM2000在摩擦狀態(tài)下工作,也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙,在工作中,分散頭偏心運轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流,因此可以達到更好的研磨分散的效果。

產(chǎn)品介紹

納米粉體膠體磨,納米粉體研磨設備,納米粉體膠體磨,納米粉體研磨機,納米粉體高速剪切膠體磨,納米膠體磨,納米膠體磨

納米粉體的分散是基礎研究領域和工業(yè)技術部門普遍遇到的課題,其應用日益廣泛,如化工、醫(yī)藥、涂料、材料、食品等。分散技術不僅是提高產(chǎn)品質(zhì)量和性能及提高工藝效率*,而且是十分重要的技術手段。

但是由于納米粉體粒度小,極易產(chǎn)生自發(fā)凝并,表現(xiàn)出強烈的聚團特性,不論在空氣中還是在液相中均易生成粒徑較大的二次粉體,聚團的結(jié)果導致納米粉體材料性能的嚴重劣化。另一方面,在復合材料的制備過程中,由于納米粉體的這種強烈團聚特性和它與復合基體材料的極性差異,納米粉體很難均勻地分散在基體材料中形成均質(zhì)復合材料,是復合材料的性能難以達到人們預期的效果。            
   
所以為了解決這一問題,各種類型的分散設備應運而生,粉體的分散、混合與均化在粉體技術中有三個目的。其一是使團聚粉體的碎解和分散,盡力使團聚粉體達到單粉體分散;其二是在粉體制備過程中由于各部分或前后生產(chǎn)的產(chǎn)品的成分或粒度不均勻,而在使用時需要性能均一的粉體材料,為了消除各部分性能上的差異,需要對粉體材料進行分散、混合與均化處理;其三是,有些粉體材料需要進行改性處理,為了保證改性處理的均一性,也需要進行分散、混合與均化處理。

SGN膠體磨GM2000系列特別適合于膠體溶液、納米懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外,GM2000在摩擦狀態(tài)下工作,也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙,在工作中,分散頭偏心運轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流,因此可以達到更好的研磨分散的效果。

              
SGN膠體磨結(jié)構:

三道磨碎區(qū):一級為粗磨碎區(qū),二級為細磨碎區(qū),三級為超微磨碎區(qū)。

我們的磨頭的結(jié)構:溝槽的結(jié)構式斜齒,每個磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下,而他們的斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣,流道體積是一樣大,這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下一直在進行研磨,而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。


GM2000系列高剪切膠體的特點:

1、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。

2、齒列的深度:從開始的2.7mm 到末端的0.7mm,范圍比較大,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣。

3、溝槽的結(jié)構式斜齒,每個磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。


GM2000系列設備選型表

型號

流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

線速度

m/s

馬達功率

KW

出/入口連接

GM2000/4

700

9,000

23

2.2

DN25/DN15

GM2000/5

3,000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

GM2000/10

8,000

4,200

23

15

DN50/DN50

GM2000/20

20,000

2,850

23

37

DN80/DN65

GM2000/30

40,000

1,420

23

55

DN150/DN125

GM2000/50

80,000

1,100

23

110

DN200/DN150

注:流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同事流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10% 

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